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光刻機企業(yè)有哪些,光刻機設(shè)備公司排行榜,光刻機哪家公司好[2025]

入選《2025年CNPP光刻機行業(yè)品牌榜中榜名錄》的有:ASML阿斯麥、Nikon、Canon、SMEE、芯上微裝Amies等,該名錄是以大數(shù)據(jù)算法、人工智能、客觀真實公正統(tǒng)計計算為基礎(chǔ),通過廣泛收集整理匯編全球權(quán)威資料,綜合多家機構(gòu)媒體和網(wǎng)站公布的排行榜單數(shù)據(jù),結(jié)合專業(yè)獨立的調(diào)研測評以及人為根據(jù)市場和參數(shù)條件變化的分析研究,最終基于網(wǎng)絡(luò)投票、評價評論、點贊口碑打分等因素在網(wǎng)站顯示的結(jié)果。由用戶企業(yè)免費自主申請申報、CNPP品牌榜中榜大數(shù)據(jù)研究部門專業(yè)調(diào)研統(tǒng)計評測研究得出,排序不分先后,僅提供參考使用。詳情>> 我喜歡的品牌投票>> 品牌榜更新時間:2025年09月4日 (榜中榜每月更新)
ASML阿斯麥 (阿斯麥(上海)光刻設(shè)備科技有限公司)
3個行業(yè)上榜十大品牌 | 注冊資本2顆星 | 品牌得票1萬+ | 品牌指數(shù)88.3 | 評分8.9 | 口碑指數(shù)622
ASML阿斯麥創(chuàng)建于1984年荷蘭,全球知名的半導(dǎo)體光刻機設(shè)備及服務(wù)提供商,專業(yè)從事高端光刻機的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售,主要產(chǎn)品包括EUV光刻機、DUV光刻機等,尤其在極紫外光刻(EUV)技術(shù)上具有壟斷地位,成為全球光刻機領(lǐng)域的龍頭企業(yè),辦事處遍布歐美亞10多個國家和地區(qū)。
Nikon (尼康精機(上海)有限公司)
2個行業(yè)上榜十大品牌 | 1個行業(yè)品牌金鳳冠 | 注冊資本3顆星 | 品牌得票1萬+ | 品牌指數(shù)87.2 | 評分9 | 口碑指數(shù)3144
Nikon光刻機是球半導(dǎo)體光刻機領(lǐng)域的知名供應(yīng)商,隸屬尼康精機事業(yè)部,致力于半導(dǎo)體光刻設(shè)備和FPD曝光設(shè)備的研發(fā)和生產(chǎn),產(chǎn)品線涵蓋半導(dǎo)體光刻設(shè)備/FPD曝光設(shè)備等,主要產(chǎn)品包括ArFi光刻機、ArF光刻機、KrF光刻機、i-line光刻機系列集成電路用光刻機及面板用光刻機,在中高端半導(dǎo)體制造領(lǐng)域和FPD曝光系統(tǒng)領(lǐng)域擁有較高市場占有率。
Canon (佳能光學(xué)設(shè)備(上海)有限公司)
1個行業(yè)上榜十大品牌 | 1個行業(yè)品牌金鳳冠 | 注冊資本3顆星 | 品牌得票7705+ | 品牌指數(shù)86 | 評分9 | 口碑指數(shù)3007
Canon光刻機是日本佳能公司旗下專業(yè)光刻機品牌,專業(yè)提供半導(dǎo)體及液晶面板生產(chǎn)設(shè)備,產(chǎn)品涵蓋半導(dǎo)體光刻機、FPD光刻機、OLED面板制造設(shè)備、真空成膜裝置、固晶機、PPD曝光機、光學(xué)傳感器等,業(yè)務(wù)涉及半導(dǎo)體、液晶面板、有機EL板等高科技制造業(yè)領(lǐng)域,已成為全球知名的半導(dǎo)體設(shè)備制造商。
SMEE (上海微電子裝備(集團)股份有限公司)
國家企業(yè)技術(shù)中心 | 國家知識產(chǎn)權(quán)示范企業(yè) | 2個行業(yè)上榜十大品牌 | 4個行業(yè)品牌金鳳冠 | 注冊資本4顆星 | 品牌得票1萬+ | 品牌指數(shù)84.7 | 評分9 | 口碑指數(shù)670
SMEE是國內(nèi)知名的半導(dǎo)體光刻設(shè)備制造商,致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售及技術(shù)服務(wù),產(chǎn)品線涵蓋光刻設(shè)備、集成電路制程設(shè)備、平板顯示制程設(shè)備、光學(xué)量/檢測設(shè)備等,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域,已成為國內(nèi)半導(dǎo)體光刻設(shè)備領(lǐng)域的佼佼者。
芯上微裝Amies (上海芯上微裝科技股份有限公司)
1個行業(yè)上榜十大品牌 | 注冊資本3顆星 | 品牌指數(shù)83.2 | 評分8 | 口碑指數(shù)1
國內(nèi)后道封裝光刻機領(lǐng)先者,致力于為IC前道芯片制造、晶圓級/板級先進封裝、化合物半導(dǎo)體和新型顯示等應(yīng)用領(lǐng)域提供高精度、高性能、高可靠性的設(shè)備及解決方案,主要產(chǎn)品涵蓋晶圓級先進封裝光刻機、激光退火設(shè)備和前道晶圓缺陷檢測設(shè)備等。
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