1、光敏性原理

光刻膠的基本原理是光敏材料暴露在紫外線下，光線將光敏材料中的分子激活，使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使光敏膠發(fā)生預(yù)設(shè)的變化。根據(jù)光線能量的不同，光刻膠可分為UV光刻膠和深紫外光刻膠。UV光刻膠用于制造精度要求低的電子元件，而深紫外光刻膠則用于制造更微小的元器件。

2、光學(xué)成像原理

光刻膠是通過光學(xué)成像原理來實(shí)現(xiàn)預(yù)期的紋理結(jié)構(gòu)。當(dāng)光照射在光刻膠表面時(shí)，會通過掩膜上的白色區(qū)域透過黑色區(qū)域，達(dá)到將圖案映射到光刻膠上的目的。通過開發(fā)過程，只剩下光刻膠上所需的微型器件的部分區(qū)域，即可形成要制造的微型器件。

3、選擇適合的溶劑

光刻膠的成分包括光敏材料、單體、溶劑和劑量。反應(yīng)關(guān)鍵因素之一是選擇適合系統(tǒng)的溶劑，溶劑是優(yōu)化反應(yīng)速率和接觸角的關(guān)鍵因素。正確的溶劑選擇可確保強(qiáng)大的粘附力和最小的溶液浸透時(shí)間。